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ファイル:Locos (microtechnology).svg

元のファイル (SVG ファイル、600 × 100 ピクセル、ファイルサイズ: 11キロバイト)

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概要

解説
English: The image illustrates the LOCal Oxidation of Silicon (LOCOS) process used in microfabrication, mostly to create isolating structures.

1) Silicon

2) Silicon dioxide
日付 2007年12月11日 (当初のアップロード日)
原典 en.wikipedia からコモンズに Twisp によって移動されました。
作者 英語版ウィキペディアのTwispさん

ライセンス

Public domain この著作物は、著作者である英語版ウィキペディアのTwispさんによって権利が放棄され、パブリックドメインとされました。これは全世界で適用されます。
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元のアップロードログ

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  • 2007-12-11 23:23 Twisp 500×150×0 (7723 bytes) The image illustrates the LOCOS (LOCal Oxidation of Silicon) technology used in microfabrication, mostly to create isolating structures. 1) Silicon 2) Silicon dioxide Author: Twisp Date: 11.12.2007
  • 2007-12-11 23:11 Twisp 500×150×0 (7723 bytes) The image illustrates the locos technology used in microfabrication, mostly to create isolating structures. <br /> 1) Silicon <br /> 2) Silicon dioxide <br /> Author: Twisp <br /> Date: 11.12.2007
  • 2007-12-11 23:03 Twisp 744×1052×0 (7614 bytes) The image illustrates the locos technology used in microfabrication, mostly to create isolating structures. 1) Silicon 2) Silicon dioxide Author: Twisp Date: 11.12.2007

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成立日

11 12 2007

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現在の版2008年4月7日 (月) 01:022008年4月7日 (月) 01:02時点における版のサムネイル600 × 100 (11キロバイト)Twisp
2008年1月19日 (土) 16:412008年1月19日 (土) 16:41時点における版のサムネイル500 × 150 (8キロバイト)Twisp{{Information |Description={{en|The image illustrates the locos technology used in microfabrication, mostly to create isolating structures. 1) Silicon 2) Silicon dioxide Author: Twisp Date: 11.12.2007}} |Source=Transferred from [http://en.wikipedia.org e

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